中國(guó)創(chuàng)新技術(shù)發(fā)展越來(lái)越快，美國(guó)越來(lái)越焦慮。
近日，據(jù)外媒報(bào)道，美政府試圖阻撓荷蘭光刻機(jī)巨頭阿斯麥（ASML）向中芯國(guó)際出售一臺(tái)價(jià)值1．5億美元的EUV（極紫外光刻機(jī)）。
對(duì)此，荷蘭半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商ASML表示，無(wú)論有無(wú)美國(guó)發(fā)放的極紫外光光刻機(jī)（EUV）銷售許可證，ASML 都希望對(duì)華繼續(xù)供應(yīng)半導(dǎo)體設(shè)備，并希望2020年增加其產(chǎn)品在中國(guó)市場(chǎng)的銷售份額。
《瓦森納協(xié)定》卡脖子，中國(guó)半導(dǎo)體工藝難提升
目前，荷蘭ASML是光刻機(jī)領(lǐng)域的龍頭老大，占據(jù)超過(guò)80％的市場(chǎng)份額，壟斷了高端光刻機(jī)市場(chǎng)。
作為集成電路制造過(guò)程中的核心設(shè)備，光刻機(jī)起到至關(guān)重要的作用，芯片廠商想要提升工藝制程，就必須要向ASML購(gòu)買光刻機(jī)，全球知名的芯片廠商英特爾、三星、海力士、臺(tái)積電、聯(lián)電、格芯等都是ASML的客戶。
中國(guó)市場(chǎng)一直以來(lái)都是ASML看好的重點(diǎn)業(yè)務(wù)區(qū)域，然而近些年來(lái)卻因?yàn)槊绹?guó)的“黑手”而接連遇阻。為什么這么說(shuō)呢？這里不得不提到《瓦森納協(xié)定》。
《瓦森納協(xié)定》又稱“瓦森納安排機(jī)制”，全稱為《關(guān)于常規(guī)武器和兩用物品及技術(shù)出口控制的瓦森納安排》，目前共有包括美、日、英、俄等40個(gè)成員國(guó)（沒(méi)有中國(guó)）。盡管《瓦森納協(xié)定》規(guī)定成員國(guó)自行決定是否發(fā)放敏感產(chǎn)品和技術(shù)的出口許可證，并在自愿基礎(chǔ)上向其他成員國(guó)通報(bào)有關(guān)信息，但實(shí)際上完全受美國(guó)控制。
每當(dāng)某一成員國(guó)計(jì)劃向中國(guó)出口某項(xiàng)高新技術(shù)時(shí)，美國(guó)甚至直接出面干涉，比如當(dāng)年捷克向中國(guó)出口“無(wú)源雷達(dá)設(shè)備”時(shí)，美便向捷克施壓，迫使捷克停止這項(xiàng)交易。
不過(guò)《瓦森納協(xié)定》協(xié)定也并非完全禁售，只是針對(duì)最新的幾代設(shè)備。就好比別人都能用最新的技術(shù)，而你就只能用落后了兩到三代的技術(shù)，長(zhǎng)期保持這樣狀況就會(huì)造成中外高端技術(shù)差距越來(lái)越大。
據(jù)小編了解，美國(guó)早在2018年就開(kāi)始伸手阻撓光刻機(jī)進(jìn)入中國(guó)市場(chǎng)。此前，荷蘭政府已經(jīng)向ASML授權(quán)允許向中國(guó)客戶出口光刻機(jī)設(shè)備。然而美國(guó)在得到這個(gè)消息后，采取各種措施阻撓光刻機(jī)出口中國(guó)。
2019年6月，美國(guó)國(guó)務(wù)卿蓬佩奧就曾親自游說(shuō)荷蘭政府，并要求荷蘭首相馬克．呂特阻止ASML向中國(guó)出口光刻機(jī)的交易；
同年7月，呂特到訪美國(guó)時(shí)，美國(guó)副國(guó)家安全顧問(wèn)庫(kù)伯曼甚至還向荷蘭首相馬克．呂特分享一份關(guān)于“中國(guó)獲得光刻機(jī)的可能后果”的“機(jī)密情報(bào)”，以拉攏荷蘭站隊(duì)；
故事發(fā)展的后續(xù)相信大家也都清楚了，為了避免因供應(yīng)最先端設(shè)備給中國(guó)因而刺激到美國(guó)，ASML于11月7日宣布，將暫時(shí)停止原定于2019年底向芯片制造商中芯國(guó)際交付的EUV極紫外線微影設(shè)備。
面對(duì)技術(shù)封鎖，中國(guó)的光刻機(jī)水平發(fā)展如何了？
光刻機(jī)的技術(shù)門檻非常高，可以說(shuō)是集人類智慧大成的產(chǎn)物。它不僅體現(xiàn)在后續(xù)芯片制造的高級(jí)工藝上，就連制造光刻機(jī)本身，也采用了許多全世界上最先進(jìn)的技術(shù)。而我國(guó)光刻機(jī)發(fā)展遲緩，不止在于難以進(jìn)口成品光刻機(jī)設(shè)備，即使是生產(chǎn)光刻機(jī)所需的關(guān)鍵零件對(duì)我國(guó)也是禁運(yùn)的，所以制約了我國(guó)光刻機(jī)技術(shù)的發(fā)展。
資料顯示，1977年，我國(guó)最早的光刻機(jī)－GK－3型半自動(dòng)光刻機(jī)誕生，這是一臺(tái)接觸式光刻機(jī)。當(dāng)時(shí)光刻機(jī)巨頭ASML還沒(méi)有出現(xiàn)，而日本的尼康和佳能已于60年代末開(kāi)始進(jìn)入光刻機(jī)領(lǐng)域。然而苦于當(dāng)時(shí)國(guó)內(nèi)生產(chǎn)工藝尚不成熟，所以光刻機(jī)也一直沒(méi)有得到更深入的研究。
80～90年代，“造不如買”的思想席卷了大批制造企業(yè)，在集成電路產(chǎn)業(yè)方面也出現(xiàn)了脫節(jié)，覆巢之下無(wú)完卵，此時(shí)的光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)同樣也出現(xiàn)了衰退。雖然后續(xù)一直在追趕國(guó)外列強(qiáng)的腳步，但產(chǎn)業(yè)環(huán)境的落后加上本來(lái)就與世界先進(jìn)企業(yè)有差距，使得中國(guó)終究沒(méi)有在高端光刻機(jī)領(lǐng)域留下屬于自己的痕跡。